CIF粉體等離子清洗機CPCP-G系列

    CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。

    更新時間:2022-03-03 16:31:26
  1. 詳細信息

CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。

等離子體作用在粉體上,可以有目的地改變粉體的物理化學性質,在保持粉體原有性能的前提下,賦予其表面新的性能,使其表面性質由疏水性變為親水性或由親水變為疏水性,從而改善粉體粒子表面的浸潤性,增強粉體粒子在介質中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有機化合物中。粉體材料表面改性是材料制備,新材料、新工藝和新產品開發的重要方法,提高了粉體材料的附加價值,擴大了粉體材料的應用領域。

CIF推出CPCP-G系列新一代帶攪拌功能的專為處理粉體樣品的等離子清洗機,采用質量流量計MFC)氣體輸送控制。主要特點是專業、處理樣品量大、快速高效、動態清洗,處理均勻、無死角、無污染、氣體輸入準確。


技術參數

型號

CPCP-G

CPCP- Gplus

艙體尺寸

H120370mm ?

H120370mm

艙體容積

12.8L

12.8L

石英轉瓶尺寸

Φ286xH88mm

Φ286xH88mm

轉瓶轉速

1-15rpm/秒可調

1-15rpm/秒可調

射頻電源

40KHz

13.56MHz

匹配器

自動匹配

自動匹配

射頻功率

10-300W可調

10-300W可調

氣體控制

質量流量計(MFC)(標配單路,可選雙路)

產品尺寸

L618xW520xH665mm


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